真空等離子體涂覆薄膜沉積設備Pluto-MC利用等離子體改性時，將試樣置于特定的離子處理裝置中，通過高能態的等離子轟擊試樣的表面，將能量傳遞給試樣表層的分子，使試樣發生熱蝕、交聯、降解和氧化反應，并使試樣表面發生C-F鍵和C-C鍵的斷裂，產生大量自由基或引進某些極性基團，從而優化試樣表面的性能。